BISNISINSIGHT.COM — Nvidia CEO Jensen Huang memperkirakan China akan menguasai teknologi litografi canggih dalam tiga hingga empat tahun ke depan. Menurutnya, kemampuan itu hanya soal waktu bagi negara yang sudah sangat mahir dalam produksi massal. Pernyataan ini muncul saat China masih bergantung pada alat impor untuk memproduksi chip generasi terbaru.

Jensen Huang berbicara soal ambisi teknologi China dalam wawancara dengan The All-In Podcast. Ia menilai China akan mencapai kemampuan litografi canggih pada 2030. "Mereka akan sampai ke sana pada 2030," ujar Huang dalam wawancara tersebut.

Litografi menjadi salah satu titik lemah industri semikonduktor China. Negara itu belum mampu memproduksi alat litografi yang setara dengan buatan ASML, perusahaan Belanda yang menguasai pasar global.

Optimisme Huang dan Realitas Industri Litografi China

Huang dikenal optimistis soal perkembangan teknologi China. Ia pernah menyebut industri AI China berada "tepat di belakang" laboratorium frontier Amerika Serikat. Penilaian itu masuk akal mengingat besarnya modal yang dikucurkan China ke sektor AI.

Namun untuk sektor litografi, optimisme Huang dinilai terlalu jauh. Produsen alat litografi terkemuka China, Shanghai Micro Electronics Equipment (SMEE), saat ini baru bisa memproduksi massal scanner ArF dry 193-nm. Alat itu digunakan untuk membangun chip pada teknologi proses kelas 90nm.

SMEE dilaporkan telah mengembangkan scanner ArF immersion berkapasitas 28nm. Tapi belum ada bukti publik bahwa sistem tersebut diproduksi dalam volume besar dan dipakai untuk produksi chip massal.

Ada laporan bahwa Shanghai Aishengna Electronic Technology Group, unit atau afiliasi SMEE, telah mengirimkan scanner immersion pertamanya. Alat itu mungkin mampu mencetak chip dengan teknologi proses kelas 28nm.

Meski demikian, alat tersebut masih memerlukan kualifikasi panjang sebelum bisa digunakan untuk manufaktur semikonduktor volume tinggi. Jika mengikuti jadwal standar, butuh bertahun-tahun sebelum unit itu dipakai memproduksi chip secara massal.

Bahkan dengan asumsi scanner pertama dikirim ke pembuat chip China pada 2026, penggunaan produksi luas sebelum 2028–2029 tampak tidak mungkin. Menyamai kemampuan scanner immersion ASML generasi awal pun masih meninggalkan pemasok litografi China jauh di belakang sistem ASML terkini.

Jarak di Litografi EUV Makin Lebar

China tertinggal jauh lebih besar dalam litografi ultraviolet ekstrem (EUV). Ada laporan ilmuwan China berhasil mengembangkan sumber plasma laser yang bisa menghasilkan cahaya 13,5 nanometer. Panjang gelombang itu dibutuhkan untuk teknologi EUV.

Namun China tampaknya belum dekat untuk merakit bahkan prototipe scanner EUV. Bahkan jika China bisa merakit platform eksposur EUV eksperimental tanpa menguasai DUV immersion berkualitas produksi, sulit membayangkan perusahaan China memproduksi scanner EUV.

Scanner litografi produksi menuntut kemampuan luar biasa di berbagai bidang. Mulai dari tahap wafer dan reticle, penyelarasan, overlay, optik proyeksi, hingga metrologi. Jika China masih berjuang mengindustrialisasi kemampuan itu untuk DUV immersion, tidak ada alasan mengasumsikan mereka sudah mengatasinya di level EUV yang jauh lebih menantang.

Taruhan Besar di Balik Perlombaan AI

Taruhannya dalam perlombaan AI sangat besar. Pemerintah China juga bertekad mencapai kemandirian teknologi. Kombinasi dua faktor itu membuat prediksi Huang mungkin saja terwujud.

Huang menegaskan cara berpikir soal China harus mempertimbangkan keunggulan mereka dalam produksi volume tinggi. "Ini hanya soal waktu," katanya. "Dua atau tiga tahun itu hanya sekejap, tidak ada apa-apanya. Jadi sejauh menyangkut mereka, mereka sudah sampai di sana."

Nvidia sendiri berkepentingan langsung dengan pasar China. Perusahaan chip AI terbesar dunia itu menghadapi pembatasan ekspor Amerika Serikat yang membatasi penjualan produk canggihnya ke China.

Pernyataan Huang bisa dibaca sebagai sinyal bagi Washington bahwa membatasi akses China ke teknologi Barat hanya akan mempercepat upaya Beijing membangun kemampuan sendiri. Sebaliknya, industri semikonduktor China masih menghadapi hambatan teknis nyata yang tidak hilang dalam tiga tahun.